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​XERF(ザーフ)次世代容量結合型RF

​総数100人のモニターを募集中です。
(価格66,000/ 600ショット:ショット数は適応に応じて増減可能です)

 

デュアル周波数モノポーラRFであるXERFは、6.78MHzと2MHzの異なる周波数帯域を採用した世界初のコンセプトを持つ「たるみ治療機器」です。

この技術により、各周波数特性を活かした深度別の組織加熱が可能となります。低エネルギーで安全な治療を実現しながら、表層から深層までの広範な組織に対して熱エネルギーを供給することができます。

 

臨床使用においては、個々の皮膚の状態や治療目的に応じて、各種パラメータを適切に調整することが重要です。

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適応、症状

ほうれい線や口横のもたつきが気になる
●頬のたるみが気になる
●フェイスラインがぼやけてきた
● 二重顎が気になる
● 肌の弾力がなくなってきた
● 顔を引き締め、小顔にしたい
● 肌質を改善したい
●手術や針を刺す治療は避けたい
●新コンセプトの治療器を試したい
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XERF の特徴

  • XERFシステムは、6.78MHzと2MHzのデュアル周波数方式を採用し、さらに表層(Shallow)、中間層(Middle)、深層(Deep)の3段階の深達度制御機能を実装しています。この技術により、顔面部位における解剖学的特性や、加齢に伴う組織性状の変化に応じた、精密な治療パラメータの設定が可能となっています。

  • 本システムの核となる技術として、特許取得済みの「Wave Fit Pulse」方式があります。この方式では、3~12の可変エネルギーパルスを組み合わせ、各パルスサイクルにおいて表皮冷却と高周波照射を最適に制御することで、有効な治療温度を維持しながら、お受けになる方の快適性に配慮した施術を実現しています。

  • ​安全性への配慮として、5ポイント式温度センサーによるリアルタイムモニタリングシステムと自動温度制御機能を搭載しています。これらは特許取得済みのスパイダーパターン電極と統合され、精密なエネルギー制御により有害事象のリスクを最小化する設計となっています。なお、個々の症状に応じた適切な治療プロトコールの選択が重要となります。

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Image - XERF EFFECTOR PKG_05 (1).jpg

組織学的検証

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  • ​参考文献からの引用となります。
    ブログにも書いています

     

  • 画像は​6.78MHz+2 MHzのデュアル周波数での照射後の組織像です(左:治療前、右:治療後)。

  • Masson’s Trichrome(MT)染色による組織学的分析を行った結果、コラーゲン束の顕著な肥厚と短縮が観察されています(中段の画像)。

  • 浅層および深層の筋膜層において、従来の高周波(RF)デバイスでは観察されていない顕著な肥厚が確認されました(下段の画像)​​​

  • 従来よりも低い周波数(2MHz)を用いることにより、組織に対する深達度を高め、ひいては治療効果を高めうることが実証されました。

​当院の特徴

  • 当院では、すべての治療を院長が、診察からアフターフォローまで担当。

  • 院長は、当院創設当初(2007年)より「たるみの機器治療」に従事しており、症例数が非常に豊富。

  • 当院には複数のたるみ治療器があり、多様な選択肢から治療法を決定。

  • 患者様のご意向、ご予算に基づき包括的なプランをご案内します。

  • たるみの状況を解剖学的に把握し、それに基づいて治療プランを立案。

  • 効果を最大化するために、プランに沿って、デザインを行います 。

  • 治療中も、即時効果の顕れ方を確認しつつ、治療手技をカスタマイズ。

  • 疼痛の管理についても、複数の手段で対応可能。

  • 副作用の発生を抑えるために、無駄な高エネルギーショットなどのオーバートリートメントは行いません。

  • 1、3、6か月後に、様子伺いのメールを差し上げ、フィードバックを頂き、問題があれば改善すべく対応いたします。

  • 必要であれば、補完する治療をご提案し、継続的なメインテナンスでさらなる効果の向上を図ります。

​起こりうる副作用
  • 一時的な紅斑(赤み)
  • 軽度の浮腫(むくみ)
  • 治療部位の違和感
  • 表皮剥離
  • 熱傷
​治療をお受けになれない場合
  • ペースメーカーなどの電子デバイスインプラントが身体に留置されている方。
  • 治療部位に金属インプラントが埋め込まれている方。
  • ケロイド体質の方、糖尿病など創傷治癒に問題がある方
  • 妊娠中の方、妊活中の方。
  • 治療部位に大きな瘢痕組織のある方、治療部位に病変がある方。
  • 金の糸や溶けない糸が留置されている方。
  • 成長因子の注入療法をお顔に受けたことのある方。
  • 病気で加療中の方は、状況によっては治療が行えない場合があります。
  • その他、医師が治療の適応がないと判断した場合。
 
​治療費
  • 医師治療

  • ​モニター治療
      600ショット     66,000 (100名)

     

  • 100ショット        22,000


    全顔+顎下   500~600ショット
    頬のみ         約400ショット

​容量結合型RFの加熱理論
  1. 当該医療機器は周波数6.78MHz+2.0MHzの容量結合型RF機器です。

  2. この周波数帯は、生体組織に対してはジュール加熱と誘電加熱の両方が関与しますが、主たる加熱メカニズムはジュール加熱です。

  3. ジュール加熱とは、導電体内の荷電粒子(イオンなど)が電場によって運動し、その結果として分子間衝突が熱エネルギーに変換される現象です。電気抵抗は、このエネルギー損失のマクロ的な表現であり、荷電粒子の運動が周囲との衝突によって妨げられることに起因します。
    生体の場合、導電性の担い手は自由電子ではなく、ソディウムやクロライド等のイオンが主ですが、それらが電場の反転に応じて往復運動(振動あるいはドリフト運動)します。その際に、周辺の分子等の構造物に衝突し、そのエネルギー損失が熱に変換されます。
    当該周波数においては、生体内イオンが電場の変化に十分追従できるため(マクロ的には電流が流れ)ジュール加熱が生じることになります。
     

  4. 極性分子(主に水分子)は、交流電場の反転に伴い双極子モーメントの配向を繰り返します。この際、分子の配向運動が電場変化に完全に追従できずに応答の遅れが生じると、入力エネルギーの一部が散逸し、熱として失われます。この電気エネルギーの散逸特性が誘電損失(dielectric loss)であり、実際に生じた熱生成現象を誘電加熱(dielectric heating)と呼びます。
    生体内のバルク水の誘電緩和時間が約10ピコ秒、当該機器の周波数の反転周期が500ナノ秒もしくは約147ナノ秒ですので、水分子はほぼリアルタイムで電場に追従できるため、分子配向遅延に伴うエネルギー散逸は極めて小さいと考えられます(当該周波数帯では、複素誘電率の虚数成分が減衰しており、誘電加熱の寄与が限定的)。

    *きわめて単純に整理すると、
    イオン(点電荷)の並進運動と衝突によるエネルギー損失→ジュール加熱、
    双極子分子の配向過程での回転運動の遅れ(位相差)、分子間相互作用による散逸→誘電加熱。

    **  誘電加熱は、電場反転周期と極性分子の誘電緩和時間が一致する周波数帯において最も顕著となります。また、生体内の水に関して誘電緩和時間が約10ピコ秒と書きましたが、結合水や水和層ではより長くなる傾向がありますし、温度など様々な因子に影響を受けます(総体としてみた場合、誘電緩和時間には分布幅があり、厳密な解析には広帯域な誘電分散ーCole–Coleモデル等ーを踏まえた評価が必要となります)。

    厳密に言えば、生体組織における誘電応答は双極子緩和のみならず、構造緩和時間や振動緩和時間(条件によりフェムト秒オーダー)、さらにβ分散領域における細胞膜構造に由来する界面分極(Maxwell–Wagner polarization)など、複数の現象が関与します。これらは複素誘電特性に影響を与えるため、理論的には考慮すべき要素です。
    しかしながら、実臨床においては、これらの微細な誘電応答が加熱分布に及ぼす影響は限定的であると考えられ、実質的な熱伝達は主に導電率と電場強度に基づくジュール加熱が支配的となります。
    (仮に数百ナノ秒オーダーの誘電緩和時間の双極子分子があったとしても、その発熱量P=ε₀ε′′ωE²は、当該周波数帯では・・・)


    追記:容量性カップリングを行っているのは、もちろんインピーダンスマッチングのためであり、これにより組織のインピーダンス特性を利用した電流経路の制御を可能にしています。

    表皮での反射損失を抑制し、また真皮におけるskin effect を適切に制御し、局所的な電流の集中を避けて、有害事象を抑制するー 要は、表層での「オーミックな電流」を減らし、「変位電流」主体の伝達を可能とし、結果的に、表層での過剰な発熱を防ぎながら、深部に効率的にエネルギーを伝達することを実現しています。

​​   なぜ線維性隔壁に選択的に熱が生じるのか?

 

  1. 生体組織中のRF電流分布に関して、電気伝導率の高い線維性隔壁(σ ≈ 2.0 S/m)は、相対的に低導電性の脂肪組織(σ ≈ 0.6 S/m)と比較して優先的な電流経路となります(電流密度は、組織の不均一な導電率分布に依存して空間的に再分配され、線維性隔壁に集中します)。

  2. この電流密度の集中により、単位体積あたりの発熱量Q = σ|E|²(ジュールの法則)に従って、線維性隔壁において強いジュール加熱が生じます。

  3. 線維性隔壁での電流密度 Jの増加は、オームの法則(J = σE)より、局所的な電場強度Eの上昇をも意味します。実際、先行研究においても、RF印加時に線維性隔壁での電位勾配(ΔV/Δx)が大きいことが示されており、電場強度が高まる傾向が確認されています(E = −∇V)。

  4. よって、線維性隔壁における選択的加熱は、単なる導電率の差によるものではなく、電流密度と電場の局在化がもたらす熱エネルギーの空間的集中現象として理解されるべきだと考えます。

​​   2.0M㎐のRFの影響(6.78M㎐との比較:理論上)

 

  1. 誘電加熱とジュール加熱の相対的寄与の変化
    2MHzでは、誘電損失成分の周波数依存性により、エネルギー散逸がさらに低下するため(誘電緩和時間と比較した電場反転周期の増大により、誘電損失の寄与は一層限定的となるため)、加熱機構としては誘電加熱の寄与がより小さくなり、ジュール加熱の相対的寄与が増加します。

  2. 組織の電気特性の周波数依存性
    生体組織の導電率σと誘電率εは周波数依存性を示すため、組織のインピーダンス特性が変化します。

  3. 電流分布への影響
    低周波数では電流の組織深達度が増加するため、組織界面での電流の再分配パターンが変化します。特に、線維性隔壁への電流集中の度合いが変化する可能性が高くなります。

  4. 臨床的な意義
    より深部への加熱効果が期待できます。また、ジュール加熱がより優位になることで、組織(線維性隔壁と脂肪と)の電気伝導率の差異がさらに重要になり、線維性隔壁での選択的加熱が強調される可能性が高いと考えられます(発熱量Q = σ|E|² において、電場強度Eの空間的偏在性が増加し、結果として、線維性隔壁での発熱の空間的集中度が増加する可能性が高い)。

    β分散を考慮すると、σ₂.₀ < σ₆.₇₈で、それぞれの場合の発熱量  Q₆.₇₈(6.78MHz) = σ₆.₇₈|E₆.₇₈|²   Q₂.₀(2MHz) = σ₂.₀|E₂.₀|² の比較になりますが、加熱効率や選択性は実測的検証が必要となるでしょう。

    ​そもそも当該機器は、デュアル周波数ですので、このあたりのことを最適化して設計されていると思われます。

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