XERF（ザーフ）次世代容量結合型RF
治療開始は1月下旬～の予定です。
総数100人のモニターを募集します。
（価格66,000/ 600ショット）
デュアル周波数モノポーラRFであるXERFは、6.78MHzと2MHzの異なる周波数帯域を採用した世界初のコンセプトを持つ「たるみ治療機器」です。
この技術により、各周波数特性を活かした深度別の組織加熱が可能となります。低エネルギーで安全な治療を実現しながら、表層から深層までの広範な組織に対して熱エネルギーを供給することができます。
臨床使用においては、個々の皮膚の状態や治療目的に応じて、各種パラメータを適切に調整することが重要です。
適応、症状
●ほうれい線や口横のもたつきが気になる
●頬のたるみが気になる
●フェイスラインがぼやけてきた
● 二重顎が気になる
● 肌の弾力がなくなってきた
● 顔を引き締め、小顔にしたい
● 肌質を改善したい
●手術や針を刺す治療は避けたい
●新コンセプトの治療器を試したい
XERF の特徴
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XERFシステムは、6.78MHzと2MHzのデュアル周波数方式を採用し、さらに表層（Shallow）、中間層（Middle）、深層（Deep）の3段階の深達度制御機能を実装しています。この技術により、顔面部位における解剖学的特性や、加齢に伴う組織性状の変化に応じた、精密な治療パラメータの設定が可能となっています。
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本システムの核となる技術として、特許取得済みの「Wave Fit Pulse」方式があります。この方式では、3～12の可変エネルギーパルスを組み合わせ、各パルスサイクルにおいて表皮冷却と高周波照射を最適に制御することで、有効な治療温度を維持しながら、お受けになる方の快適性に配慮した施術を実現しています。
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安全性への配慮として、5ポイント式温度センサーによるリアルタイムモニタリングシステムと自動温度制御機能を搭載しています。これらは特許取得済みのスパイダーパターン電極と統合され、精密なエネルギー制御により有害事象のリスクを最小化する設計となっています。なお、個々の症状に応じた適切な治療プロトコールの選択が重要となります。
組織学的検証
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参考文献からの引用となります。
ブログにも書いています
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画像は6.78MHz＋2 MHzのデュアル周波数での照射後の組織像です（左:治療前、右：治療後）。
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Masson’s Trichrome（MT）染色による組織学的分析を行った結果、コラーゲン束の顕著な肥厚と短縮が観察されています（中段の画像）。
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浅層および深層の筋膜層において、従来の高周波（RF）デバイスでは観察されていない顕著な肥厚が確認されました（下段の画像）
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従来よりも低い周波数（2MHz）を用いることにより、組織に対する深達度を高め、ひいては治療効果を高めうることが実証されました。
当院の特徴
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当院では、すべての治療を院長が、診察からアフターフォローまで担当。
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院長は、当院創設当初（2007年）より「たるみの機器治療」に従事しており、症例数が非常に豊富。
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当院には複数のたるみ治療器があり、多様な選択肢から治療法を決定。
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たるみの状況を解剖学的に把握し、それに基づいて治療プランを立案。
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効果を最大化するために、プランに沿って、お顔にデザイン。
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治療中も、即時効果の顕れ方を確認しつつ、治療手技をカスタマイズ。
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効果と同じくらい重要な痛みの管理についても、複数の手段で対応。
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副作用の発生を抑えるために、無駄な高エネルギーショットなどのオーバートリートメントは行いません。
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1、3、6か月後に、院長より様子伺いのメールを差し上げ、フィードバックを頂き、問題があれば改善します。
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必要であれば、補完する治療をご提案し、継続的なメインテナンスでさらなる効果の向上を図ります。
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患者様のご意向、ご予算に基づき包括的なプランをご案内します。
起こりうる副作用
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一時的な紅斑（赤み）
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軽度の浮腫（むくみ）
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治療部位の違和感
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表皮剥離
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熱傷
治療をお受けになれない場合
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ペースメーカーなどの電子デバイスインプラントが身体に留置されている方。
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治療部位に金属インプラントが埋め込まれている方。
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ケロイド体質の方、糖尿病など創傷治癒に問題がある方
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妊娠中の方、妊活中の方。
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治療部位に大きな瘢痕組織のある方、治療部位に病変がある方。
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金の糸や溶けない糸が留置されている方。
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成長因子の注入療法をお顔に受けたことのある方。
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病気で加療中の方は、状況によっては治療が行えない場合があります。
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その他、医師が治療の適応がないと判断した場合。
治療費
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医師治療
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モニター治療
600ショット 66,000 （100名）
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100ショット 22,000
例
全顔＋顎下 500~600ショット
頬のみ 約400ショット
参考文献・論文
容量結合型RFの加熱理論
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当該医療機器は周波数6.78MHz+2.0MHzの容量結合型RF機器です。
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この周波数帯は、生体組織に対してはジュール加熱と誘電加熱の両方が関与しますが、ジュール加熱が支配的です。
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そもそもジュール加熱は、導電体内の荷電粒子が電場によって運動し、その結果として分子間衝突が熱エネルギーに変換される現象です。電気抵抗は、この「分子間衝突」によって生じていて、言葉を変えると、荷電粒子の運動が周囲の分子との衝突で妨げられることが、巨視的には電気抵抗として観察されています。
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生体の場合、導電性の担い手は自由電子ではなく、ソディウムやクロライド等のイオンが主ですが、それらが電場の反転に応じて往復運動（振動あるいはドリフト運動）します。その際に、周辺の分子等の構造物に衝突することによって熱が発生します。
当該周波数においては、生体内イオンが電場の変化に十分追従できるので（導電性良好で、電流が流れ）ジュール加熱が生じます。 -
極性分子（水分子）に関しては、水の誘電緩和時間が約17ピコ秒、当該機器の周波数の反転周期が約147ナノ秒ですので、双極子は容易に配向可能で、誘電損失は極めて小さくなるため、誘電加熱の影響は限定的です。
［＊きわめて単純に表現すると、イオン（点電荷）の並進運動と衝突によるエネルギー損失→ジュール加熱、双極子分子の配向過程での回転運動の遅れ（位相差）、分子間相互作用による散逸→誘電加熱。** 同様に簡略化して述べると、水の緩和時間近辺の反転周期が誘電加熱が最も起こりやすく、また、水に関して誘電緩和時間が約17ピコ秒と書いてますが、温度による変化や、そもそも「分布」を持っています。厳密に言えば、構造緩和時間や振動緩和時間（条件によってはフェムト秒オーダー）、さらに当該機器の周波数からβ分散を無視できず、あまりに複雑になりますので論じていません］
なぜ線維隔壁に選択的に熱が生じるのか？
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生体組織中のRF電流分布に関して、電気伝導率の高い線維性隔壁（σ ≈ 2.0 S/m）は、相対的に低導電性の脂肪組織（σ ≈ 0.6 S/m）と比較して優先的な電流経路となります（電流密度は、組織の不均一な導電率分布に依存して空間的に再分配され、線維性中隔に集中します）。
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この電流密度の集中により、単位体積あたりの発熱量Q = σ|E|²（ジュールの法則）に従って、線維性中隔において強いジュール加熱が生じます。
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線維性隔壁での電流密度 Jの増加は、オームの法則 J = σEより、局所的な電場強度Eの上昇も意味します（ここでは、線維隔壁のみを考えていますので、ＪとＥは比例関係にあります。先行研究では、印可時に線維隔壁の電圧降下：変化率が大きいという記載があり、電場強度の上昇がうかがえます。← E＝-∇V あるいは Ｅ＝- ΔＶ／ΔＸなので）。
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結果として、線維性隔壁における単位体積あたりの発熱量は、脂肪組織と比較して、導電率の差以上に大きくなると考えられます。これは、電流密度の集中による電場強度の局所的な上昇効果が、導電率の差と相乗的に作用するためです。
2.0M㎐のＲFの影響（6.78M㎐との比較：理論上）
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誘電加熱とジュール加熱の相対的寄与の変化
誘電損失は周波数に比例して減少するため、2MHzでは誘電加熱の寄与が相対的に小さくなります。結果として、ジュール加熱の相対的寄与が増加します。 -
組織の電気特性の周波数依存性
生体組織の導電率σと誘電率εは周波数依存性を示すため、組織のインピーダンス特性が変化します。 -
電流分布への影響
電流の組織深達度が増加するため、組織界面での電流の再分配パターンが変化します。特に、線維性隔壁への電流集中の度合いが変化する可能性が高くなります。 -
臨床的な意義
より深部への加熱効果が期待できます。また、ジュール加熱がより優位になることで、組織（線維性隔壁と脂肪と）の電気伝導率の差異がさらに重要になり、線維性隔壁での選択的加熱が強調される可能性が高いと考えられます（発熱量Q = σ|E|² において、電場強度Eの空間分布がより不均一になり、結果として、線維性隔壁での発熱の空間的集中度が増加する可能性が高い）。
β分散を考慮すると、σ₂.₀ < σ₆.₇₈で、それぞれの場合の発熱量 Q₆.₇₈(6.78MHz) = σ₆.₇₈|E₆.₇₈|² Q₂.₀(2MHz) = σ₂.₀|E₂.₀|² の比較になりますが、臨床的な検証が必要となるでしょう。
そもそも当該機器は、デュアル周波数ですので、このあたりのことを最適化して設計されていると思われます。